系统设置为MES系统提供系统设置功能，包括生产单位、栏位、页面、数据字典、菜单设置等，提供配置系统个性化Dashboard，系统设置模块作为一个标准框架提供了客户所需的基础通用功能，并提供了一系列的自定义扩展设置，有利于应用程序的迅速构建。使交叉多应用程序中对象的定义标准化，支持多语种和多单位。因为许多元素被客户化定义，系统变得更加灵活，扩展性更强。

该模块允许用户定义产品及其对应的工艺流程，包括每个工步类型及相关流程控制。

在流程定义方面，模块支持多路径（Multi-path），且现场作业时，可基于预先设定的条件，自动进行路径选择。

该模块也支持各种产品流程控制，包括Q-Time控制(跨站正负时间限制）、机台限制、工艺/设备机限、污染等级控制,并提供设置各种Future Action（比如Future Hold、操作提示等）等等。

返工设置方面，支持返工次数限制，且可通过系统的Context，定义多种层别的返工，比如工步级/工序级/流程级/产品级/批次级等。

该模块可以为生产中所需采集的数据设定采集计划，可以定义参数、参数集、采集点、样本与样点等。

支持按Job、Lot、Wafer进行数据采集，并提供Wafer Sampling规则设定，包括TOP+N、BOTTOM+N等。

可通过接口从量测设备直接获取数据，或则通过量测设备生成的文件自动获取数据。

该模块提供设备基础信息定义，包括父子设备和多腔设备的定义。

提供设备状态模型的建立与追踪管理，且可实现父子设备间和多腔设备间的状态联动，并可以支持状态切换的权限设定。

该模块包含了所有工艺流程的工艺菜单信息，可以创建和更新工艺菜单，工艺菜单的设置使用受版本控制，包括创建、激活、冻结、取消功能等。

支持逻辑工艺菜单和实际工艺菜单（加工参数）的设置，并可以根据工艺条件设定，根据前层量测结果自动选择工艺菜单。

该模块对在制品进行加工管理，指导操作员按照预先设定的工艺要求加工产品，并对加工信息进行详细的跟踪和记录。

其中最主要的作业管理功能允许跟踪多批次同时处理，可按片进行管理和跟踪，提供Wafer级的历史追溯。

除常用的派工（Dispatch）/批量派工（Batch）/进站（Move In）/出站（Move Out）外，其它功能包括：分批（Split）/合批（Merge）、暂停（Hold）/释放（Relase）、跳步（Skip）/跳多步（Mulit-skip）、站内返工（Internal-rework）/站外返工（External-rework）等等。

该模块包括原材料库和辅助材料库的管理。该模块可单独使用或者作为ERP中库房管理模块的扩展，实现接口功能。

支持常见的库房管理功能：入库、使用、出库、退库、库房定义、存放库房及货架、借出、归还、报废、修复出库、修复入库、品质等级、冻结等功能。

该模块支持Cassette(花篮)的类型、Slot数、使用周期定义，同时支持状态模型管理。

提供花篮的维护设定，支持使用次数、使用时间的自动计算，触发提醒等。

该模块支持设定光刻板的相关属性，如类型、等级、用途、客户等，同时可以支持同E-RACK进行集成。

支持光刻板的设备进出站管理，批次加工时进行检查光刻板是否使用正确。提供光刻板维护管理，可以根据使用次数及时间设置维护计划。

提供批次实验管理，包括批次流程的动态设定，分片单等功能，支持设定与替换批次的工步、Recipe、采集计划等信息，提供设定的流程签核。

提供Workflow编辑工具，设定OCAP流程，流程节点包括重量、加量、批注、批次释放等，根据流程设定进行签核及同MES功能联动。